XMD *纳米研磨均质机
产品简介
详细信息
*纳米研磨均质机,*高剪切均质机,*实验室四级均质机,科研*药剂均质机
一、*的简介
*,白色固体或粉末状的两性氧化物,分子量:79.9,是一种白色无机颜料,具有无毒、较佳的不透明性、较佳白度和光亮度,被认为是性能较好的一种白色颜料。钛白的粘附力强,不易起化学变化。广泛应用于涂料、塑料、造纸、印刷油墨、化纤、橡胶、化妆品等工业。它的熔点很高,也被用来制造耐火玻璃,釉料,珐琅、陶土、耐高温的实验器皿等。
同时,*有较好的紫外线掩蔽作用,常作为防晒剂掺入纺织纤维中,超细的*粉末也被加入进防晒霜膏中制成防晒化妆品。
*可由金红石用酸分解提取,或由四氯化钛分解得到。*性质稳定,大量用作油漆中的白色颜料,它具有良好的遮盖能力,和铅白相似,但不像铅白会变黑;它又具有锌白一样的持久性。
二、*的研磨
生产出来的*有时品质不高,粒径为微米级,在后期应用过程中需要进一步的研磨细化粒径,结合多家客户案例,*XMD2000系列高剪切胶体磨进行研磨细化处理,一般循环处理,粒径可至纳米级。XMD2000系列高剪切胶体磨,有着18000rpm的转速,三层错齿结构的高精密磨头,研磨细化效率高。
三、*胶体磨介绍:
1、SID胶体磨具有设计紧凑、实用方便,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料理想的加工设备。
2、SID高剪切胶体磨是对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均匀度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。
3、该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。
四、影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
1、胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)
2、胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
3、物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
4、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
六、超高速胶体磨与国内胶体磨的性能比较:
1、转速和剪切速率:纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
2、胶体磨头和间距:纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,XM胶体模块,GMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
3、机械密封:纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
七、XMDS2000系列*纳米研磨均质机型号表
以下为型号表供参考:
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |