XMD 口服液高剪切四级均质机
产品简介
详细信息
口服液高剪切四级均质机
一、产品关键词
小儿口服混悬液分散胶体磨,*口服液高速均质机,德国进口分散均质机,管线式研磨均质机,医药级胶体磨
二、*的介绍
*为白色结晶性粉末,稍有特异臭,几乎不溶于水,可溶于丙酮、yi醚、二氯甲烷,可溶于氢氧化钠或碳酸钠水溶液,本品的抗炎、镇痛和解热作用均大于*,是*的16~32倍,具有解热作用快、维持时间长的优点;当严重感染致机体炎症反应过强时,*尚有抑制炎症介质生成,减轻机体炎症反映程度的作用;胃肠道副作用小,对肝,胃及造血系统无明显副作用。
三、混悬剂的介绍
混悬剂中难溶性药物颗粒的粒径在0.1~1mm时,其吸收速度收到溶出速度的限制。微粉化可减小药物颗粒的粒径,增加药物的溶出速度。因此制备混选型液体制剂,应先将药物研细,并加入助悬剂如天然高分子化合物、半合成纤维素衍生物和糖浆等,以增加介质黏度来降低微粒的沉降速度。
若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。
四、口服液高剪切四级均质机的工艺
四级均质机高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业的特殊要求,XMD2000其剪切速率可以超过18000rpm,转子的速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布就更窄。
当物料工艺确定时,可以通过细化混悬液物料粒径来减少沉降,从而获得均匀稳定的混悬液成品。一般采用高剪切胶体磨进行处理,将固体物质均匀的分散到液体介质当中。传统的胶体磨转速为3000rpm,分散效果不佳。而高剪切胶体磨转速高达18000rpm,三级结构,配置博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的情况下,可24小时生产。
五、高速胶体磨的结构
*小儿口服混悬液分散胶体磨,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组分散头(定子+转子)同时工作,乳液经过高剪切后,液滴更细腻,粒径分布更窄,因而生成的混合液稳定性更好。三组分散头均易于更换,适合不同的工艺应用。该系列中不同的型号的机器都有相同的线速度和剪切率,非常易于扩大生产。适宜的温度,压力与粘度参数与DISPNKSING一样。也符合CIP/SIP清洁标准,适合食品及医药生产
六、SID胶体磨在设计上的突出优点在于:
1、转速18000rpm,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:
2、磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。
3、德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。
4、XMD2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。
七、高速胶体磨选型表:
型号 | 流量L/H | 转速rpm | 线速度m/s | 功率kw | 入/出口连接DN |
XMD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
XMD2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
XMD2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
XMD2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
XMD2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。