GM2000 混悬剂制备胶体磨
产品简介
详细信息
一、产品名称概述:
混悬剂制备胶体磨,混悬剂的制备,混悬液超高速分散机,混悬液高剪切均质机
二、什么是混悬剂?
1.混悬剂(混悬液/悬浊液)是指难溶性固体药物以微粒形式(直径0.5nm~10nm)分散在液体分散剂中形成的非均相分散体系。
①溶剂—多为水,也可用植物油。
②外观要求—药物微粒细小,分散均匀,沉降速度缓慢,且沉降微粒不结块,沉降物再分散性好,粘度适宜,易倾倒,不粘瓶壁。
③特点—属于热力学不稳定的粗分散体系,需要添加稳定剂。
三、影响混悬剂稳定性的因素:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
1.微粒的沉降—混悬剂中的微粒静置时受重力作用产生沉降。微粒的沉降服从stokes定律。
2.微粒的荷电与水化—混悬剂中的微粒由于吸附溶液中的离子都具有双电层结构;
3.絮凝和反絮凝—在混悬剂中加入适量电解质可使微粒形成疏松的絮状聚集体,这有助于混悬剂的稳定;而使絮凝状态变为非絮凝状态的过程称反絮凝。
4.其他因素—如:结晶的增大或转型;混悬剂浓度的改变或温度的变化都可能影响混悬剂的稳定性。
四、混悬剂的制备方法及设备:
1.分散法——分散法是将固体药物粉碎成微粒,再根据主药性质混悬于分散介质巾,加入适宜的稳定剂,亲水性药物先干研至一定细度,再加液通过胶体磨研磨(通常一份固体药物,加0.4—0.6份液体为宜);疏水性药物则先用润湿剂或高分子溶液研磨,使药物颗粒润湿,后加分散剂稀释至总量。
2.凝聚法——凝聚法是指将离子或分子状态的药物借助物理或化学方法凝聚成微粒,再混悬于分散介质中形成混悬剂。
3.SGN混悬液胶体磨GM2000采用了三级错齿磨头定转子,磨头定转子间隙在0.2-0.7之间,间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙,在转速不变的情况下,间隙越小,速胶体磨研磨、分散效果会越好。故名思意,高速胶体磨有着非比寻常的转速,SGN工程师们通过改变皮带轮的传动比例,使原本只有3000rpm的电机,经过传动后设备转速可以高达14000rpm。
4.实践证明,在磨头定转子间隙不变的情况下,转速越高,高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果,我们提供丹弗斯变频器供客户选择,高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm,是国内设备转速的4-5倍,可谓是极速。
五、SGN混悬液胶体磨GM2000结构机理:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
1. 由电动机、连接体、磨头等组成,磨盘采用优质不锈钢锻压制成,磨盘表面有三个以上沟槽,分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同,越是向外延伸一级,磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。
2. 机械密封分为:硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理,增强刀齿的硬度,起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节,其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。
六SGN粉碎机选型表:
型号 | 流量 | 输出转速 | 线速度 | 马达功率 | 出/入口链接 |
| L/H | rpm | m/s | kw |
|
GM2000/4 | 700 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8000 | 4200 | 23 | 1.5 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和Z终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
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