XMD 纳米金属氧化物高剪切分散机
产品简介
详细信息
纳米金属氧化物高剪切分散机
一、产品名称概述:纳米材料分散机,纳米材料研磨机,管线式高剪切分散机,超高速三级分散机
二、纳米材料
纳米材料指的是纳米结构按一定方式堆积或一定基体中分散形成的宏观材料。纳米结构为*少一维尺寸在1~100nm 区域的结构,它包括纳米粒子、纳米纤维、纳米薄膜、纳米块状和纳米晶等。纳米粒子又称超微粒子,统指1~ 100nm 的细微颗粒(结晶的或非结晶的)。纳米粒子既不同于微观原子、分子团簇,又不同于宏观体相材料,是一种介于宏观固体和分子间的亚稳中间态物质。当粒子尺寸进入纳米数量级(1~100nm)时,由于纳米粒子的表面原子与体相总原子数之比随粒径尺寸的减少而急剧增大,使其显示出强烈的体积效应、量子效应、表面效应和宏观量子隧道效应。
三、纳米材料分类
包括纳米块状材料和纳米复合材料。从物质的类别来分,可分为金属纳米材料、无机氧化物纳米材料、无机半导体纳米材料和有机小分子和聚合物纳米材料。
四、无机纳米材料的分散难点
纳米产品在工业上应用是一个难题,特别是将功能性纳米材料粉末分散在中高粘度的介质中,如果用普通高剪切分散设备去分散,需要超长时间的分散,而长时间的分散会导致发热、结皮、老化,后分散的均匀度还不能令人满意。SID工程技术人员针对这种工况,创新设计,充分根据流体特性,将纳米材料得到均质分散。
太仓希德专注于纳米无机材料的分散,混合,均质,研磨等,通过研制出集成式的乳化分散(可真空)一体分散机,针对各类纳米无机材料推出的各类工作刀头能够满足很多特性的材料乳化与分散,温度、真空度、时间、乳化分散力度都是可控的,真正实现了智能化操控。
五、分散过程
一般来说,纳米颗粒在溶剂中的分散过程一般包括三个阶段,即纳米颗粒表面的润 湿、机械分散、分散稳定。纳米颗粒与溶剂之间的润湿过程主要取决于纳米颗粒和溶剂 本身的性质,良好的润湿性是实现纳米粒子在溶剂中稳定分散的前提条件。要实现纳米 粒子的稳定分散,除了要求两者之间有良好的润湿性之外,机械分散也是一个重要因素。机械分散在纳米粒子分散过程中除了将团聚体解聚之外,更重要的是它通过纳米粒子结 构的变化产生新的界面,促进润湿、吸附等表面反应的进行。
六、太仓希德纳米分散机的优势
传统的高速分散机(转速2930转)也即是高速搅拌机,是将搅拌机插入罐中对物料进行高速搅拌,由于这只是一个局部的搅拌,剪切中作用力弱、对物料的剪切频率少,因此常会抱团、分层、分散不均,影响产品品质及性能,而SID高剪切纳米分散机是将物料进行一个全局的混合分散剪切,物料从储料罐中进入到工作腔体进行360度高频次的剪切、分散、撞击、摩擦,因此物料更细、分散稳定性更好。当然还有设备加工精度、物料粘稠度、物料原始粒径、温度、是否有添加剂等众多影响因素。
在设备的角度来看
1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 分散头的剪切速率(越大,分散越好)
3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,越细齿分散越好)
4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,分散越好)
5 循环次数(越多,分散越好,到设备的期限,就不能再好)
七、XMD2000纳米研磨分散机
纳米分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
以下为型号表供参考:
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
纳米金属氧化物高剪切分散机