STP603 爱德华EDWARDS STP603真空泵
产品简介
详细信息
概述
Edwards STP603 是新型的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现*的性能，zui大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
应用
· 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
· 电子回旋共振 （ECR） 刻蚀
· 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
· 溅射
· 离子注入源，射束线泵送端点站
· MBE
· 扩散
· 光致抗蚀剂脱模
· 晶体/晶膜生长
· 晶片检查
· 负载锁真空腔
· 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
· 高能物理：射束线、加速器
· 放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
*的转子技术
· zui大的制程灵活性
· 无油
· 低振动
· 高度可靠
· 免维护
*的控制器设计
· 自动调整
· 自行诊断功能
· 直流电机驱动
· 无电池运行
紧凑型设计
· 占地面积小
· 半机架控制器
技术数据
| 入口法兰 | ISO160F |
| 出口 | KF40 |
| 抽速 | |
| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 压缩比 | |
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） | 6.5 x 10-6 Pa （5 x 10-8 Torr） |
| 加热时的极限压力（ICF 法兰） | 10-7 Pa （10-9 Torr） |
| zui大连续出口压力 | 13 Pa （0.1 Torr） |
| 额定速度 | 35000 rpm |
| 启动时间 | 6 分钟 |
| zui高入口法兰温度 | 120 °C |
| 输入电压 | 100 至 120 （± 10） V 交流或 |
| 200 至 240 （± 10） V 交流 | |
| 启动时的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |