爱德华EDWARDS STP603真空泵

STP603爱德华EDWARDS STP603真空泵

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2016-07-01 02:44:39
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产品简介

Edwards STP603 是新型的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现*的性能,Z大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了认可。

详细介绍

 

概述
Edwards STP603 是新型的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现*的性能,zui大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了认可。
 
应用
·         金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
·         电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
·         薄膜沉积 CVDPECVDECRCVDMOCVD
·         溅射
·         离子注入源,射束线泵送端点站
·         MBE
·         扩散
·         光致抗蚀剂脱模
·         晶体/晶膜生长
·         晶片检查
·         负载锁真空腔
·         科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
·         高能物理:射束线、加速器
·         放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
*的转子技术  
·         zui大的制程灵活性
·         无油
·         低振动
·         高度可靠
·         免维护
*的控制器设计  
·         自动调整
·         自行诊断功能
·         直流电机驱动
·         无电池运行
紧凑型设计  
·         占地面积小
·         半机架控制器
技术数据

入口法兰
ISO160F
出口
KF40
抽速
  N2
650 ls-1
  H2
550 ls-1
压缩比
  N2
>108
  H2
>105
加热时的极限压力(VG/ISO 法兰)
6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr)
加热时的极限压力(ICF 法兰)
10-7 Pa (10-9 Torr)
zui大连续出口压力
13 Pa (0.1 Torr)
额定速度
35000 rpm
启动时间
6 分钟
zui高入口法兰温度
120 °C
输入电压
100 120 (± 10) V 交流或
200 240 (± 10) V 交流
启动时的功耗
0.8 kVA
泵重量
31 kg
控制器重量
9 kg

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