中试型研磨分散机，实验室中试研磨分散机，中试型分散机，中试型研磨机，专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到zui低。

中试型研磨分散机是在中试型胶体磨的基础上加入了一组分散盘，剪切细化能力要强于高剪切胶体磨。
      
CMD2000/4中试型研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

        
CMD2000/4中试型研磨分散机的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

   
 IKN中试型研磨分散设备的胶体磨头有很高的线速度，以及特殊上深下浅的三级磨头结构，一次处理即可满足细化要求。*级刀头形状，可以把相对大块的物料进行初步粉碎，以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。     磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下浅的齿列结构，相较沟槽是直线，同级的沟槽深度一样的磨头，可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿，但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

     
CMD2000/4中试型研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到zui低，保证机器连续24小时不停机运行。更多信息请段明明。

CMD2000/4中试型研磨分散设备有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送。
           
CMD2000胶体磨标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢。 特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷。    
CMD2000胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。CM2000设计耐受温度范围为-20°C-180°C。 可供选择的选配部件有： -动密封动静环材质搭配（碳化硅，合金等） -静态密封圈材质选型（是否有腐蚀性物料，酸碱度等） -磨头定转子材质（不锈钢，碳化钨钴，三氧化二铝等） -是否需要我司配置电控柜。

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