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作为已被工业界认可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平台的二代加工系统,Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统在3D微纳加工领域拥有惊人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。
Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。
通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。
主要特征:
* 纳米尺度打印:在任意空间方向上的特征尺度控制,可达100nm
* 超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工
* 的振镜轨道控制保证的快速扫描速度下的轨迹准确度
* 自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位
* 可达6英寸基片和硅片的广泛选择
* 工业化批量生产: 200个标准介观尺度结构通宵产量
* 保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能
* 快速原型制作,高精度,高设计自由度,简易明了的工作流程
* 工业验证的晶圆级批量生产
* 通用及专用的打印材料
* 兼容自主及第三方打印材料