一、产品名称概述：

硬脂酸钙超高速胶体磨，硬脂酸钙连续式研磨机，硬脂酸钙纳米研磨分散机，硬脂酰胺在线式研磨机

二、实验过程：

1.硬脂酸钙分散在*溶液中的实验，实验目的是将硬脂酸钙研磨后均匀的分散在*溶液中，磨细之后不团聚，SGN工程师建议采用进口高剪切胶体磨，转速可达18000rpm。

2.实验原料：硬脂酸钙   *溶液   水

物料配比预混后原始粒径：44μm

客户要求粒径：80%  2μm以下

实验地点：上海思峻机械设备有限公司胶体磨（锥体磨）苏州实验室

实验处理量：1.5kg

物料稠度：1、相对稠  2、相对稀

高剪切胶体磨定转子配置：锥体磨（碳化钨钴材质），德国*定转子，精度超高，定转子间隙0.2-0.3mm（国产定转子间隙一般在0.5-1mm）

3.实验过程：

3.1、高剪切胶体磨（锥体磨）开机运转，转速10500rpm，缓慢加入1.5kg的稠溶液，开启搅拌机，搅拌机转速600rpm（目的：使物料均匀通过工作腔，被均匀剪切），设备运行30min后取样，排料，检测。

3.2、高剪切胶体磨（锥体磨）开机运转，转速12500rpm，缓慢加入1.5kg的稀溶液，开启搅拌机，搅拌机转速800rpm（目的：使物料均匀通过工作腔，被均匀剪切），设备运行30min后取样，排料，检测。

4.实验效果：物料乳化均质效果佳，粒径达到理想大小，*符合客户将物料使用在涂布上的使用要求。

三、硬脂酸钙高速胶体磨结构机理：

1.高剪切胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是 向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分： 硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐 腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。

 2.三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,较大的转速可以达到21000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

四、硬脂酸钙高速胶体磨主要用途：

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

五、硬脂酸钙高速胶体磨优势：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

1.GMD2000 系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMD2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成 的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的 距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

2.该款机器在设计上的突出优点在于：

2.1. 可更换式加工模块，实现分散、均质、乳化、悬浮、湿磨、 粉液混合混合等多种功能。

2.2. 专为实验室模拟工业管线式生产而设计，从中试到生产，无需重新调整工艺参数 。

2.3. 轴封材料为PTFE，易于更换。

2.4. 可配置变频控制柜，调节转速及流量。

2.5. 拆卸方便，容易清洗。

2.6. 设备设计合理，方便实用。

3.设备的优势：

①从订货、报关、发货提货、试车生产10天完成（客户直接使用，不需要我司提供安装调试，如有要求也可安排安装调试）

②整个操作过程由思峻公司直接与客户直接洽谈合作（不走任何第三方，减少成本和保证质量）

③转速18000rpm。（根据不同的要求直接调节旋钮控制速度）
④电机三相220Ⅴ/60Hz。（内地380V/50HZ，一切以客户利益和方便为核心）
⑤变频器也是3相220Ⅴ。（内地380V/50HZ，满足客户一切设备技术要求）
⑥全不锈钢（满足GMP车间一切要求、含有CIP、3Q等一切医药级别要求，符合环保高级别要求）

4.影响乳化效果，影响分散，均质结果的因素有以下几点；

4.1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

4.2 乳化头的剪切速率  （越大，效果越好）

4.3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，越细齿效果越好）

4.4  物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

4.5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

5.线速度的计算：

粉碎速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)   
      g 定-转子 间距 (m)

– 

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

– 磨头的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

六、GMD2000与同类产品比较优势分析：
 GMD2000超高速胶体磨作为一个用于混合分散工艺的设备，其具有连续性操作特性，因此也称为连续式超高速混合分散机，能够很好的满足大批量连续生产作业的要求，与传统的批次式分散机相比具有很多优势：
（1）分散效率更高。批次式分散机在进行分散前往往还需要预搅拌，在其基础上才能实现较好的分散混合的效果，因此所需时间更多，产量较少，适用于不连续生产或产量较小的情况；而连续式分散机则可以直接进行投料，更短时间内能够实现混合液的粒径要求，产量更大，效率高，适用于连续生产，产量大的情况。
（2）分散效果更好。批次式分散机安装在罐体内，物料与分散头距离松散，工作时依靠强大的吸力迫使物料进入分散头中，但分散过程中仍存在部分物料逃逸情况，混合分散后粒径分布较宽，此外批次式分散机一般仅为单层分散头结构，不能实现足够小的粒径要求；而连续式分散机由于分散腔内部设计空间更小。分散头与物料接触密切，剪切充分，分散腔内设计成多层定转子咬合结构，优化了粗细齿形结构，可使混合分散后的粒径分布较窄，效率更高。
（3）技术功能指标更好。GMD2000系列产品与批次式产品比较在相同的马达情况下，转速有明显优势，具有相对节能高效的优点，可以在更短时间内处理更多符合要求的物料产品，能够为大批量生产的企业实现生产过程中成本的降低。GMD2000是SGN公司针对制药行业管理标准如GMP等，专门设计的用于混合分散乳化均质的设备，因此在设计时便考虑了FDA和EHEDG标准，满足制药工业所需。

七、上海思峻胶体磨的选型表：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

 1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

 2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

 3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。

 4 本表的数据因技术改动，定制而不同，正确的参数以提供的实物为准

硬脂酸钙超高速胶体磨，硬脂酸钙连续式研磨机，硬脂酸钙纳米研磨分散机，硬脂酰胺在线式研磨机